财联社11月6日讯（编纂 马兰）日本佳能公司在纳米压印技术上的又重印技突破，有望成为芯片光刻机老大荷兰ASML的价又佳挑战者 ，这对于小型半导体制作商来说特意值患上期待。省电术否

佳能首席实施官Fujio Mitarai最近展现，新纳该公司的米压纳米压印配置装备部署价钱将比ASML的光刻机少一位数 ，但当初还未抉择其最终定价 。突破与此同时，操作佳能机械所需要的格式功耗仅为光刻机的颇为之一。

据此前新闻，又重印技ASML的价又佳新旗舰光刻机价钱约4亿美元，近国夷易近币27亿元。省电术否其功耗则可能飙升至两百万瓦 ，新纳比之后光刻机的米压格外耗电量还要逾越一倍。

在具备全天下至多光刻机的突破台积电，80台功耗一百万瓦的操作光刻机已经让台积电能源破费占到全台湾地域的12.5%，若其引入更新的下一代光刻机 ，台积电的耗电量将愈加无畏。

佳能新配置装备部署的上市无疑可能突破由少数现金丰裕的头部公司操作芯片制作的时事 ，小公司概况再也不需要经由代工场商来妨碍芯片破费，这对于增长芯片相助有着极为关键的熏染。

无奈取代
，另辟沙场

88岁的Mitarai指出，纳米压印技术不太可能逾越ASML的光刻机
，但其将缔造新的机缘以及需要，已经有良多客户提出推销动向 。

纳米压印是一种微纳加工技术，它接管传统机械模具微复型道理，可能替换传统且重大的光学光刻技术。重大而言  ，像盖章同样造芯片，把栅极长度惟独多少纳米的电路刻在印章上，再将印章盖在橡皮泥上，患上到与印章相同的图案，经由脱模就能患上到一颗芯片 ，这里的橡皮泥是指纳米压印胶，印章即模板。

近十年来 ，佳能不断与大日本印刷公司以及存储芯片制作商Kioxia Holdings相助开拓纳米压印技术。与经由反射光使命的极紫外光刻（EUV）技术差距，纳米压印技术将电路图直接压印到晶圆上
，且因其不运用镜头，可能用比现有曝光工艺更低的老本实现详尽化破费芯片 。

不外，纳米压印尽管仍能衔接开始进的破费工艺要求 ，但在速率上较光刻机逊色良多
。因此，ASML光刻机仍是铛铛代界开始进的芯片制作机械，也是批量破费快捷、节能芯片的首选配置装备部署
。

佳能机械更像是为小型芯片破费商提供的抉择，同时也能让台积电以及三星电子等大型代工商更易破费小批量芯片 ，从而节约老本
。

据悉，佳能正在建树自己的第一家纳米压印配置装备部署工场，估量将在2025年上线。自往年年初以来 ，佳能股价已经累计上涨了27%
，而另一家相助对于手尼康股价也上涨了24% ，但该公司的光刻机配置装备部署相助力远不迭ASML 。